【摘要】 本发明旨在提供一种表面等离子体共振成像金膜点微阵列的制备方法。首先在3-氨基丙基三甲氧基硅烷修饰的玻璃片上自组装一层直径为2.5纳米的金胶纳米粒子单层作为催化模板。然后以透明胶片高精度打印的点阵阵列图样为掩模对上述金纳米粒子修饰的玻璃片进行光学刻蚀，制备出金纳米粒子的微阵列。最后采用无电镀金技术在纳米尺度范围内控制金纳米粒子点微阵列的均匀增长，从而构建所需的金膜点微阵列，微阵列中金点的大小和间距可方便地由掩模来控制，金点的厚度通过调节无电镀金的时间来控制。 微信 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院长春应用化学研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】130022 吉林省长春市人民大街5625号 【申请人地区】中国 【申请人城市】长春市 【申请人区县】南关区 【申请号】CN200810050885.0 【申请日】2008-06-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101315330B 【公开公告日】2010-12-08 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101315330B 【授权公告日】2010-12-08 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01N21/55; G01N21/41 【发明人】董绍俊; 王建龙 【主权项内容】表面等离子体共振成像金膜点微阵列的制备方法，其特征在于步骤和条件如下：(1)制备胶体金纳米粒子修饰的玻璃片将清洗过的玻璃片浸泡在体积浓度为10％的氨基丙基三甲氧基硅烷的无水甲醇溶液中12小时，制备出氨基硅烷修饰的玻璃片，用甲醇溶液冲洗干净，然后将其浸泡到平均直径为2.5纳米的胶体金纳米粒子溶液中18小时，在其表面组装一层金纳米粒子，将其取出用氮气吹干，备用；(2)光刻法制备金纳米粒子点微阵列修饰的玻璃片把正性光刻胶旋涂于纳米金修饰的玻璃片表面，紫外光通过掩模曝光后，用碱液显影，之后，采用选择性化学刻蚀暴露出的金纳米粒子的点微阵列，通过在丙酮溶液中浸泡1小时除去未曝光的光胶层，用氮气吹干，得到金纳米粒子的微阵列；(3)无电镀金制备表面等离子体共振成像金膜点微阵列将步骤(2)制得的金纳米粒子微阵列的玻璃片浸入体积比为1∶40的0.4毫摩尔的NH2OH·HCl和质量浓度为0.1％的HAuCl4的混合溶液中，在摇动的状态下无电镀，制备所需的表面等离子体共振成像金膜点微阵列；所述的金点的厚度可以通过控制无电镀金的时间来调节，在当前的工艺条件下每分钟在玻璃片上镀5纳米的金；无电镀金结束后，制备出的表面等离子体共振成像金膜点微阵列，用二次水冲洗干净，氮气吹干，并在室温条件下老化。 【当前权利人】常州储能材料与器件研究院 【当前专利权人地址】江苏省常州市河海东路9号 【统一社会信用代码】121000006051000987 【家族被引证次数】17
