【摘要】 本发明涉及一种控制生长多层膜制作多级微反射镜的方法，该方法包括下列步骤：制作基片并进行清洗处理；用第一块光刻版光刻形成所需掩蔽图形，第一块光刻版明条纹和暗条纹的宽度各为L/21；然后沉积镀膜材料，剥离光刻胶及其上的薄膜，形成多级膜层台阶；按上述方法依次制作各膜层台阶，第n块光刻版明条纹和暗条纹的宽度各为L/2n，直至达到所需级数，完成多级微反射镜基底的制作；用制作完成的多级微反射镜基底作为模板制作模具，然后用模铸方法制成多级阶梯结构；在多级阶梯结构或多级微反射镜基底的表面镀增反膜层。本发明有效提高了阶梯纵向尺寸精度及重复性，工艺可控性强，重复性好，不用化学腐蚀，减少了污染。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】130033 吉林省长春市东南湖大路16号 【申请人地区】中国 【申请人城市】长春市 【申请人区县】二道区 【申请号】CN200810050789.6 【申请日】2008-06-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101290363B 【公开公告日】2010-10-27 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101290363B 【授权公告日】2010-10-27 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B5/08; G03F7/00; G02B1/10; G02B1/14 【发明人】梁静秋; 王波; 梁中翥; 徐大伟 【主权项内容】一种控制生长多层膜制作多级微反射镜的方法，其特征在于包括下列步骤：(一)、采用双面抛光的表面粗糙度为0.2nm～1μm的硅或玻璃或二氧化硅或碳化硅或钼片或石英片作为基片，并对其进行清洗处理；(二)、在基片上表面涂敷光刻胶，用第一块光刻版曝光并显影、坚膜，形成所需掩蔽图形；设台阶总数为N，多级微反射镜总宽度为L，每层台阶的高度为h，则第一块光刻版的明条纹和暗条纹的宽度各为L/21；然后将镀膜材料沉积或电铸于基片上表面，剥离光刻胶及沉积于其上的薄膜，形成膜层台阶，膜层厚度为Nh/21，宽度为L/21，清洗处理；(三)、在步骤(二)所制作的样品上表面涂敷光刻胶，然后用第二块光刻版进行第二次光刻，形成所需掩蔽图形；第二块光刻版明条纹和暗条纹的宽度各为L/22；然后将镀膜材料沉积或电铸于样品上表面，剥离光刻胶及沉积于其上的薄膜，形成第二批膜层台阶，膜层厚度为Nh/22，宽度为L/22，清洗处理；(四)、用第三块光刻版进行第三次光刻，形成所需掩蔽图形；第三块光刻版明条纹和暗条纹的宽度各为L/23；然后将镀膜材料沉积或电铸于样品上表面，剥离光刻胶及沉积于其上的薄膜，形成第三批膜层台阶，膜层厚度为Nh/23，宽度为L/23，清洗处理；(五)、按上述方法依次制作各膜层台阶，直至达到所需级数，第n块光刻版明条纹和暗条纹的宽度各为L/2n；第n次沉积或电铸得到的膜层厚度为Nh/2n，宽度为L/2n；最后制作完成的多级微反射镜基底每个台阶高度为Nh/2n，宽度为L/2n，第一层膜与最后一层膜之间的垂直高度为Nh，多级台阶总数为N，总宽度为L；(六)、用制作完成的多级微反射镜基底作为模板制作模具，然后用模铸方法制成多级阶梯结构；(七)在所制成的多级阶梯结构或制作完成的多级微反射镜基底的表面镀增反膜层。 【当前权利人】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 【当前专利权人地址】吉林省长春市东南湖大路16号 【统一社会信用代码】1210000041275487XF 【家族被引证次数】15
