【摘要】 本发明公开了一种热蒸镀薄膜沉积制程于氧化铁的应用，主要系利用热蒸镀原理与设备 将各种元素(钛、镍、银、锡、铜、铁…等)以薄膜沉积方式镀在氧化铁(FeO2)的表面， 制程中依各元素的物理特性来定义各项热蒸镀参数(蒸度速率、真空度、加热电流、加热时 间/温度、预热时间/温度…等)，最后求得最佳的热蒸镀参数并满足薄膜的表面特征、 厚度、组织、附着性、耐焊性与均匀度等各项要求，达到提高镀膜质量及降低成本的效果。 【专利类型】发明申请 【申请人】赖盈方 【申请人类型】个人 【申请人地址】中国台湾高雄市楠梓区德祥路152巷4号7楼之2 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810302508.1 【申请日】2008-07-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101619438A 【公开公告日】2010-01-06 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C14/24; C23C14/18; C23C14/14; C23C14/54 【发明人】赖盈方 【主权项内容】1.一种热蒸镀薄膜沉积制程于氧化铁的应用，其特征在于包括下列 步骤： A、对蒸镀炉腔体内进行10分钟粗抽，当真空度达到0.2Torr时，对蒸镀炉腔体细 抽10分钟，当真空度达到2*10-5Torr时，对蒸镀炉腔体内加氩气同时并加偏压约10KV ，使氩气形成氩离子并对被镀物表面形成放电效应，清除被镀物表面； B、对基板加热20分钟至400℃～800℃时，保持此温度10分钟后停止加热， 而在基板温度降至380℃～520℃时，将电流调至270安培～350安培，通过大电 流方式加热将原材料钛气化，并均速转动基板让被镀物正面焊锡端及侧面焊锡端都可以接触 到原材料分子，约5分钟左右，使钛分子运动至被镀物正面焊锡端表面及侧面焊锡端形成第 一层薄膜沉积； C、在侦测到所镀的钛金属薄膜达到1um时，令可移动式蒸发源移动至对应于镍原材料 处，在基板温度降至320℃～460℃，同样用大电流240安培～330安培对镍原材 料加热气化成分子并旋转基板，5分钟后，在真空状态下镍分子运动至第一层钛金属薄膜上 沉积，形成第二层镍金属薄膜； D、当测得镍金属薄膜的膜厚达到1um时，关闭加热器20分钟，可移动式蒸发源自动 移至对应锡原材料，当基板温度降至100℃～180℃时，启动蒸发源电流至100安培 ～180安培，对锡原材料加热气化成分子并旋转基板，5分钟后，在真空状态下锡分子运 动至第二层镍金属薄膜上沉积，形成第三层锡金属薄膜。 【当前权利人】赖盈方 【当前专利权人地址】中国台湾高雄市楠梓区德祥路152巷4号7楼之2 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族被引证次数】1
