【摘要】 本发明公开了一种基板的支撑装置，包含：四个第一支撑座支撑基板的第一空白区与第二空白区其中之一，至少一个第二支撑座支撑基板的第一空白区其中之一，一座体设置第一支撑座及第二支撑座，经由第一支撑座与第二支撑座的特定设置，藉此避免基板受损或破片，以及避免在化学气相沉积(CVD)制程中基板的面板区产生色差等问题，更可以直接对应到不同尺寸的面板设计，而不需变更支撑座的位置。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810128964.9 【申请日】2008-06-23 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101307436B 【公开公告日】2010-09-15 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101307436B 【授权公告日】2010-09-15 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C23C16/458 【发明人】林明勋; 李宗澧; 叶守正; 林盈宏 【主权项内容】一种基板的支撑装置，用以支撑一基板，其中该基板包含：二个第一侧边与二个第二侧边，所述第一侧边垂直于所述第二侧边，多个第一空白区，与所述第一侧边平行，多个第二空白区，与所述第二侧边平行，以及多个面板区，位于所述第一空白区及所述第二空白区之间，该支撑装置包含：四个第一支撑座，对应并支撑所述第一空白区与所述第二空白区其中之一，所述第一支撑座对最近的该第一侧边的距离相等，对最近的该第二侧边的距离相等；至少一个第二支撑座，对应并支撑所述第一空白区其中之一，该第二支撑座对所述第一侧边的距离相等；及一座体，用以设置所述第一支撑座及该第二支撑座。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路一号
