【摘要】 本发明公开一种半导体基材清洁装置，特别是一种用于半导体工艺中自半导体基材及掩模表面去除污染物质的装置。该清洁装置包含：一工作平台；一基座，是由两个互相平行的垂直基板组成，垂直基板具有一底端及一顶端，垂直基板的底端设置于工作平台上；以及一活动式清洁单元，枢设于基座其两个垂直基板的顶端，其中活动式清洁单元至少具有一细长形出口，用以传送一流体至一半导体基材或一掩模的一表面。 【专利类型】发明申请 【申请人】家登精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810178202.X 【申请日】2008-11-14 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740325A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740325B 【授权公告日】2012-11-28 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/02; G03F1/00; B08B3/02; G03F1/82 【发明人】潘勇顺 【主权项内容】一种半导体基材清洁装置，其特征在于包含有：一工作平台；一基座，是由两个互相平行的垂直基板组成，该垂直基板具有一底端及一顶端，该垂直基板的该底端是设置于该工作平台上；以及一活动式清洁单元，枢设于该基座其两个垂直基板的该顶端，其中该活动式清洁单元至少具有一细长形出口，用以传送一流体至一半导体基材的一表面。 【当前权利人】家登精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】2
