【摘要】 本发明公开了一种形成金属玻璃镀膜的靶材，在基材上溅镀形成组成是ZraKbMcNd的金属玻璃镀膜，其中，K、M、N选自于VB族、VIB族、VIIIA族、IB族、IIIA族，或IVA族中的元素，任二者的原子半径百分比不小于15％，a、b、c、d表原子组成百分比，30≤a≤77，11≤b≤50，4≤c≤15，4≤d≤10，靶材具有多数成扇形拼成圆盘状或长方形连续排列的镀膜材料单元，每一镀膜材料单元具有四条分别由锆、K、M、N四金属元素构成的元素分条，且所有元素分条的锆、K、M、N数量比与金属玻璃镀膜成溅镀产生比例关系。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人金属工业研究发展中心 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾高雄市楠梓区高楠公路1001号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810188845.2 【申请日】2008-12-30 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101768718A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C14/14; C23C14/34 【发明人】邱松茂; 朱继文; 杨国源; 卓廷彬 【主权项内容】一种形成金属玻璃镀膜的靶材，该金属玻璃镀膜的组成是ZraKbMcNd，其中，K、M、N选自于属于化学周期表中的VB族、VIB族、VIIIA族、IB族、IIIA族，或IVA族中的元素，且a、b、c、d表原子组成百分比，30≤a≤77，11≤b≤50，4≤c≤15，4≤d≤10，其特征在于：该靶材包含多数个镀膜材料单元，每一镀膜材料单元具有四条分别由锆、K、M、N四金属元素构成的元素分条，且所有元素分条的锆、K、M、N数量比与a/f锆、b/fK、c/fM、d/fN成比例关系，其中，f锆、fK、fM、fN分别是对应锆、K、M、N元素相对锆的溅射产生率。 【当前权利人】财团法人金属工业研究发展中心 【当前专利权人地址】中国台湾高雄市楠梓区高楠公路1001号 【引证次数】2.0 【被引证次数】23 【他引次数】2.0 【被自引次数】2.0 【被他引次数】21.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】23
