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IC异位检测方法专利

发布时间:2026-06-19

【摘要】 本发明揭露一种IC异位检测方法(a method for detecting IC position deviation),用以检测一承载盘(tray)中的IC的位置是否发 生异位,承载盘承载有多个以阵列排列的IC。IC异位检测方法是通过投 射激光与一取像装置接收激光的反射影像而得,其中,取像装置所产生的 取像画面具有一预先设定的基准位置。 【专利类型】发明申请 【申请人】京元电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810213392.4 【申请日】2008-09-02 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101666618A 【公开公告日】2010-03-10 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G01B11/00 【发明人】李明俊 【主权项内容】1.一种IC异位检测方法,用以检测一承载盘中的IC的位置是否发 生异位,该承载盘承载有多个以阵列排列的IC,该IC异位检测方法是通 过投射激光与一取像装置接收该激光的反射影像而得,其中,该取像装置 所产生的取像画面具有一预先设定的基准位置,其特征在于,该IC异位 检测方法包含: 投射一激光至该承载盘上的特定位置IC,该取像画面的基准位置至该 特定位置IC上的激光投射位置的距离设定为基准距离; 自该特定位置IC沿一特定阵列的方向依序投射激光至该特定阵列的 所有IC,并依序取像,各该取像画面的基准位置至各IC的激光投射位置 的距离为测量距离; 比对各测量距离与该基准距离,当比对结果超过一预先设定的误差范 围时,即称该IC具有异位; 若该特定阵列的所有IC均不具有异位,则设定该特定阵列的所有IC 的测量距离为基准距离阵列; 以垂直该特定阵列的方向取得该特定阵列的邻接阵列的IC的测量距 离阵列; 比对该测量距离阵列与该基准距离阵列,当比对结果在该预先设定的 误差范围时,则重新设定该邻接阵列为基准阵列,该测量距离阵列为基准 距离阵列;以及 依序取得另一邻接阵列的测量距离阵列、比对基准距离阵列、取得比 对误差、检出异位IC、重设基准距离阵列,至该承载盘中的所有IC的位 置均测量完毕为止。 【当前权利人】京元电子股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省新竹市 【引证次数】1.0 【被引证次数】1 【他引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】1

  • 【摘要】一种点测装置,包括一弯探针,一边缘传感器和一探针固着装置,其特征在于:所述边缘传感器具有一摆臂及一感应器,所述摆臂可相对于一支点作摆动而使所述感应器的接点跳脱或接触;所述探针固着装置将所述弯探针固定在所述摆臂上。本发明的点测装置具有
  • 【摘要】本发明提供一种电源供应器提升较低输出负载效率的控制电路及其方 法,该电源供应器包括有多组功率级组,一输入电源输入该电源供应器后再 整合一输出电源以驱动负载;一控制电路,电性连接所述这些功率级组,用 以检测所述这些功率级组驱动负载状况
  • 【专利类型】外观设计【申请人】余清炉【申请人类型】个人【申请人地址】台湾省台中县丰原市圆环西路23号11楼【申请人地区】中国【申请人城市】台湾省【申请号】CN200830272567.X【申请日】2008-11-21【申请年份】2008【公
  • 【摘要】一种利用电流解离杂质的洗净装置,包含一清洗座、两导电件,及一供电单元。该清洗座包括一底壁,及一自该底壁周缘向上延伸的围绕壁,该底壁与围绕壁界定出一可容置清洁剂的清洗槽。所述导电件分离设置于该清洗座上且在该清洗槽上显露。该供电单元设置
  • 【摘要】本发明提供了一种螺丝杆体的成型模具组,包含有两个对应的模具,其在 每一模具上设有:至少一第一直向凸堤,所述第一直向凸堤具有连续的第一部 及第二部;至少一第二直向凸堤,所述第二直向凸堤的宽度由前端往末端渐进 式地扩大,其具有靠近所述第
  • 【摘要】本发明涉及一种投影式电容触控装置、及一种识别不同接触位置的方法。 该不同接触位置产生于投影式电容触控面板上,该方法包含下列步骤:步骤1 根据第一接触位置,产生一个第一组参考数值;步骤2根据第二接触位置,产 生多个第二组参考数值,其中