【摘要】 一种配置于微影系统的光罩取放装置内的过滤装置，微影系统至少包 括：光源装置用以提供光源；光罩取放装置配置有复数个光罩；光罩承载 台配置有固定器用以固定光罩；基板承载台配置有固定器用以固定基板； 透镜组将光源装置的光源聚焦并使光罩承载台上的光罩接受照射部分转 移至基板。而过滤装置由底座、上盖及化学吸附层所形成，过滤装置与微 影系统内的光罩具相同尺寸，且与光罩相邻排列于光罩取放装置内支撑架 上，因此，过滤装置可有效地过滤该光罩周围的悬浮分子污染物，以避免 该悬浮分子污染物形成于光罩表面。 【专利类型】发明申请 【申请人】家登精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810161046.6 【申请日】2008-09-24 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101683579A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】B01D46/00; G03F1/00; G03F7/20 【发明人】刘裕彰; 刘维虔; 周昱良 【主权项内容】1、一种过滤装置，包含有：一底座，其上配置复数个通孔并于该底 座的内侧周边区域形成阶梯状平台用以支撑一配置复数个通孔的上盖，以 使该底座与该上盖组合的后形成一内部空间，其特征在于： 该底座与该上盖是由金属所形成且于该底座与该上盖组合的后所形 成的该内部空间中容置一化学吸附层。 【当前权利人】家登精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省台北县 【被引证次数】3 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】3
