【摘要】 本发明揭示一种像素结构及其制造方法。其中像素结构包括一基板、一扫 描线、一数据线、一共用线、一有源元件、一像素电极、一绝缘层与一保护层， 其中扫描线、数据线与共用线配置于基板上。有源元件电性连接至扫描线与数 据线。像素电极电性连接至有源元件。绝缘层覆盖共用线。保护层覆盖有源元 件与共用线上方的绝缘层。其中，共用线上方的绝缘层与保护层的总厚度，以 远离共用线的方向渐缩。 【专利类型】发明申请 【申请人】中华映管股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北市中山北路三段二十二号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810137906.2 【申请日】2008-07-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101620351A 【公开公告日】2010-01-06 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02F1/1362; H01L27/12; H01L21/84; H01L21/00; G02F1/13 【发明人】洪国峰; 张原豪 【主权项内容】1.一种像素结构，包括： 一基板； 一扫描线，配置于该基板上； 一数据线，配置于该基板上； 一共用线，配置于该基板上； 一有源元件，配置于该基板上，且该有源元件电性连接至该扫描线与该数 据线； 一绝缘层，由该有源元件中延伸出并至少覆盖该共用线； 一保护层，覆盖该有源元件并延伸至该共用线上方的绝缘层上，其中对应 于该共用线上方的该保护层与该绝缘层中具有一凹陷，以使该绝缘层与该保护 层的总厚度，以远离该共用线的方向渐缩；以及 一像素电极，配置于该保护层上，并电性连接至该有源元件。 【当前权利人】中华映管股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省台北市中山北路三段二十二号
