【摘要】 本发明一种掩膜清洁装置，至少包括：一腔体，具有一密闭腔室，密闭腔室设有一掩膜承座，用以承载一掩膜，其中掩膜上具有一框架且在框架上贴有一层保护膜；一光电元件，是用以发射一光束至掩膜上的保护膜，并接收从保护膜反射的光束，且可传送一信号以代表保护膜于掩膜上的高低起伏变化；一泵系统，是用以将腔体的密闭腔室内的气体抽离，以使密闭腔室内形成负压，以分离掩膜上的污染物；及一控制器，是用以接收光电元件的信号，当信号显示保护膜于掩膜上的高低起伏变化大于一设定值时，控制器输出另一信号以停止泵系统的运作。 【专利类型】发明申请 【申请人】家登精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810170183.6 【申请日】2008-10-13 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101726987A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F1/00; B08B11/00; G03F1/82 【发明人】邹本纬 【主权项内容】一种掩膜清洁装置，其特征在于，包括：一腔体，具有一密闭腔室，该密闭腔室设有一掩膜承座，用以承载一掩膜，且该掩膜上配置有一保护膜；一光电元件，用以发射一光束至该保护膜，并接收从该保护膜反射的光束；及一泵系统，用以将该密闭腔室内的气体抽离，以使该密闭腔室形成负压，借以分离该掩膜上的污染物。 【当前权利人】家登精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县 【被引证次数】10 【被他引次数】10.0 【家族被引证次数】10
