【摘要】 一种均温板，包含：真空腔体、工作流体、下毛细结构、多个支撑 柱。真空腔体由上盖与底板所组成，并填注有适量的工作流体，且底板 上铺设有下毛细结构。多个支撑柱位于真空腔体内，连接上盖与底板以 支撑上盖，各支撑柱与上盖之间具有第一倾斜角，汽态的工作流体冷凝 后由上盖经支撑柱回流至底板。 【专利类型】发明申请 【申请人】和硕联合科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810211683.X 【申请日】2008-09-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101676672A 【公开公告日】2010-03-24 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101676672B 【授权公告日】2012-08-22 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】F28D15/02; H05K7/20 【发明人】刘睿凯; 张育玮; 锺兆才 【主权项内容】1、一种均温板，用以接触热源，其特征在于，包含： 真空腔体，包含上盖与底板，上述底板用以接触上述热源； 工作流体，位于上述真空腔体内，可吸收上述热源的热能转变为汽 态； 下毛细结构，位于上述底板；及 多个支撑柱，连接上述上盖与上述底板以支撑上述上盖，各上述支 撑柱与上述上盖之间具有第一倾斜角，汽态的上述工作流体冷凝后由上 述上盖经上述这些支撑柱回流至上述底板。 【当前权利人】和硕联合科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北市 【引证次数】8.0 【被引证次数】8 【他引次数】8.0 【被他引次数】8.0 【家族引证次数】11.0 【家族被引证次数】8
