【摘要】 本发明涉及一种传送装置、导正结构、传送及导正基板的方法，该传送装置包括多个滚轴以及导正组件。多个滚轴构成一承载平面，多个滚轴滚动用以传送基板。导正组件介于多个滚轴其中的两个滚轴之间，导正组件具有两个与该承载平面相交的倾斜部，所述倾斜部相对并分别朝相反方向倾斜。前述两个倾斜部各具有高于该承载平面的第一端以及低于该承载平面的第二端，其中第一倾斜部的第一端与第二倾斜部的第一端之间的距离大于第一倾斜部的第二端与第二倾斜部的第二端之间的距离。该装置可于基板下放过程的同时导正基板，缩短制造时间，避免产值损失，此外大幅度缩减成本并有效减少后续维修成本，且导正效果良好，适用现有机台规格。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810083211.0 【申请日】2008-03-04 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101234702B 【公开公告日】2010-07-21 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101234702B 【授权公告日】2010-07-21 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】B65G13/00; B65G47/24; B65G49/06 【发明人】林集祥; 詹景翔; 何铭祥 【主权项内容】一种传送装置，包括：多个滚轴，构成一承载平面，所述多个滚轴滚动用以传送一基板，所述多个滚轴平行排列，所述多个滚轴的轴心方向定义为第一方向，所述滚轴滚动时沿着垂直于该第一方向的第二方向传送该基板；以及第一导正组件，设于所述多个滚轴的其中两个滚轴之间，该第一导正组件具有与该承载平面相交的两个倾斜部，所述两个倾斜部与该承载平面相交处之间的距离大约等于该基板的宽度，并且所述两个倾斜部相对并分别朝向该第一方向以及与该第一方向相反的方向倾斜，所述两个倾斜部各具有高于该承载平面的一第一端以及低于该承载平面的一第二端，所述两个倾斜部的第一端之间的距离大于所述两个倾斜部的第二端之间的距离。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】14
