【摘要】 本发明公开了一种微粒清除机台，适于清除显示面板的基板上的多个微粒。此微粒清除机台包括基座、检测模块以及微粒清除模块。检测模块是配置于基座，且用以检测基板上的微粒的高度。微粒清除模块是配置于基座，且相对应于检测模块设置。微粒清除模块包括驱动机构以及清除件，其中清除件是连接驱动机构。驱动机构适于调整清除件至一预定高度，并驱使清除件移动，以刮削基板上的微粒。 【专利类型】发明授权 【申请人】友达光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810167121.X 【申请日】2008-09-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101363988B 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101363988B 【授权公告日】2010-06-02 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02F1/1333; B08B1/00; B08B11/00 【发明人】史瑞斌; 李锡闳 【主权项内容】一种微粒清除机台，适于清除一显示面板的一基板上的多个微粒，其特征在于，该微粒清除机台包括：一基座；一检测模块，配置于该基座，该检测模块是用以检测该基板上的该些微粒的高度；一微粒清除模块，配置于该基座以及相对应于该检测模块设置，该微粒清除模块包括：一驱动机构；以及一清除件，连接该驱动机构，该驱动机构适于调整该清除件至一预定高度，并驱使该清除件移动，以刮削该基板上的该些微粒。 【当前权利人】友达光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹 【引证次数】3.0 【自引次数】1.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】2
