【摘要】 。一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法，包括：(1)在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中，将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上；(2)以YBCO为靶材，靶基距为35～60mm；(3)在抽真空前调整激光光路，使激光聚焦于靶位，并位于金属基带正下方；(4)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa，且将金属基带加热至750～820℃；再向真空腔体内通入氧气，并控制纯氧气氛为10～60Pa；(5)使金属基带匀速运动，用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜；(6)将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火，即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。使用激光法制备的YBCO薄膜不仅有良好的织构和表面形貌，更有高的电性能，沉积速率可达到200nm/min。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京有色金属研究总院 【申请人类型】企业 【申请人地址】100088 北京市新街口外大街2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】西城区 【申请号】CN200810225973.X 【申请日】2008-11-07 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101736296A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C23C14/34; C23C14/58; C23C14/54; C23C14/06; B32B9/04; B32B15/04 【发明人】张华; 杨坚; 刘慧舟; 冯校亮; 周其; 古宏伟 【主权项内容】一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法，其特征在于：该方法包括下述步骤：(1)、在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中，将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上，再将不锈钢引带固定在走带系统上；(2)、以YBCO为靶材，靶基距为35～60mm；(3)、在真空腔体中，采用脉冲激光沉积设备并在抽真空前调整激光光路，使激光聚焦于靶位，并位于金属基带正下方；(4)、抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa，且将金属基带加热至750～820℃并保持；再向真空腔体内通入氧气，并控制纯氧气氛为10～60Pa并保持；(5)、通过走带系统使金属基带匀速运动，用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜；(6)在真空腔体中，将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火，即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。 【当前权利人】北京有色金属研究总院 【当前专利权人地址】北京市新街口外大街2号 【被引证次数】7 【被自引次数】2.0 【被他引次数】5.0 【家族被引证次数】7
