【摘要】 本发明公开了一种反应腔室，其包括腔体和介质窗，所述介质窗 置于腔体的侧壁顶部，并且在二者的接触面之间设置有密封件和缓冲 件。此外，本发明还公开了一种应用上述反应腔室的等离子体处理设 备。本发明提供的反应腔室及应用该反应腔室的等离子体处理设备具 有使用寿命长、成本低以及工艺稳定等优点。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810119319.0 【申请日】2008-09-03 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101667524A 【公开公告日】2010-03-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101667524B 【授权公告日】2011-09-14 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L21/00; H05H1/46; H01J37/32 【发明人】管长乐 【主权项内容】1.一种反应腔室，包括腔体和介质窗，所述介质窗置于腔体的侧 壁顶部，并且在二者的接触面之间设置有密封件，其特征在于，在所 述腔体和介质窗的接触面之间还设置有缓冲件。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】10 【被自引次数】5.0 【被他引次数】5.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】10
