【摘要】 一种利用再引发休眠基团制备嵌段共聚物的方法属于共聚物领域。利用休眠基团的再引发能力引发聚合的产物是接枝聚合物，只是对基体材料的表面改性。而嵌段聚合物可作表面活性剂、粘接剂、纤维和热塑性弹性体及用在聚合物自组装制备纳米结构材料等。本发明步骤：将夺氢型光引发剂或者夺氢型光引发剂与光引发剂助剂的组合和单体的有机溶液在氮气或者氩气气体保护下用紫外光照射反应30-180分钟，得到链末端带有可再引发休眠基团的前驱体聚合物；光引发剂的用量为单体质量百分比的0.1％-3.5％；以上述前驱体聚合物为引发剂，在75-120℃下热引发聚合4-30小时或在紫外光照射下引发聚合1-4小时，得到嵌段共聚物；反应器为密闭容器，反应器正对光源部分的透光率要大于80％。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京化工大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】100029 北京市朝阳区北三环东路15号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810114670.0 【申请日】2008-06-06 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101302279B 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101302279B 【授权公告日】2010-06-23 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C08F293/00; C08F2/50; C08F2/01 【发明人】杨万泰; 孟辉; 刘莲英 【主权项内容】一种利用再引发休眠基团制备嵌段共聚物的方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步：将夺氢型光引发剂或者夺氢型光引发剂与光引发剂助剂的组合和单体的有机溶液在氮气或者氩气气体保护下用紫外光照射反应30-180分钟，得到链末端带有可再引发休眠基团的前驱体聚合物；光引发剂的用量为单体质量的0.1％-3.5％；所用的单体浓度为5-60wt％；第二步：以上述前驱体聚合物为引发剂，在75-120℃下热引发聚合4-30小时或在紫外光照射下引发聚合1-4小时，得到嵌段共聚物；聚合反应在本体、溶液或乳液中进行；上述步骤的反应器为密闭容器，反应器正对光源部分的透光率要大于80％。 【当前权利人】北京化工大学 【当前专利权人地址】北京市朝阳区北三环东路15号 【统一社会信用代码】1210000040000182XD 【引证次数】2.0 【自引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】10
