【摘要】 本发明公开的质量流量控制器的在线校验方法，其校验过程中压力控制阀的开度或者反应腔室中的气压与气体的流量一一对应，因此可以输入预定流量的气体，待压力动态稳定后测量压力控制阀的开度或者反应腔室中的气压；然后通过待校验的质量流量控制器输入预定流量的气体，待压力再次动态稳定后测量压力控制阀的开度或者反应腔室中的气压；这样，通过比较上述两次开度或者两次气压即可得出待校验的质量流量控制器是否发生零点飘移的结论。本发明所提供校验方法所耗费的时间仅是在反应腔室中建立压力动态平衡的时间，因此可以显著缩短停机检测时间、快速得到检测结果，有利于等离子体处理设备使用效率的提高。。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810227447.7 【申请日】2008-11-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101436069B 【公开公告日】2010-09-15 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101436069B 【授权公告日】2010-09-15 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G05B23/00; G05D7/00; H01L21/00 【发明人】南建辉; 宋巧丽 【主权项内容】一种质量流量控制器的在线校验方法，用于判断等离子体处理设备的质量流量控制器是否发生零点飘移，包括以下步骤：11)对等离子体处理设备的反应腔室抽真空，固定压力控制阀的位置，并保持系统流导不变；12)向所述反应腔室中通入预定流量的气体，待压力稳定后测量反应腔室中的气体压力，将该压力作为该流量下的基准压力；13)通过待校验的质量流量控制器输入预定流量的气体，待压力稳定后测量反应腔室中的气体压力，将该压力作为该流量下的实际压力；所述实际压力与同流量下的基准压力在相同的温度下测得；14)计算所述实际压力与同流量下的基准压力之差相对于所述基准压力的比值；141)判断是否已经得到预定数目的比值；若是，转向步骤15)，若否，改变等离子体处理设备的压力控制阀的位置，并转向步骤12)；所得到的各个比值的平均值大于或者等于5％时，所述实际压力与同流量下的基准压力之差达到步骤15)中所述预定程度；15)判断所述实际压力与同流量下的基准压力之差是否达到预定程度；若是，得出待校验的质量流量控制器需要进行校准的结论，若否，得出待校验的质量流量控制器不需要进行校准的结论。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】1.0 【自引次数】1.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】17
