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一种水处理用荧光示踪剂及其使用方法专利

发布时间:2026-06-11

【摘要】 本发明提供一种水处理用荧光示踪剂及其使用方法。该示踪剂是具有荧光性能的半导体量子点;将该示踪剂与水处理药剂混配后,投加到工业水系统中,通过连续监测水系统中荧光示踪剂的浓度,控制水处理药剂的投加量,提高水处理设施运行水平。该示踪剂在水系统中表现为惰性,具有示踪性能优越、检测灵敏高、性能稳定、适用水质广泛等特点。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国石油化工股份有限公司; 中国石油化工股份有限公司北京化工研究院 【申请人类型】企业 【申请人地址】100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810225357.4 【申请日】2008-10-31 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101726475A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G01N21/64; C09K11/56; C09K11/88; C09K11/89; C09K11/74; C09K11/70; C02F1/50; C02F5/00 【发明人】万国晖; 周建; 平春霞; 张英雄; 周霖 【主权项内容】一种水处理用荧光示踪剂,其特征在于:所述荧光示踪剂中含有半导体量子点,该半导体量子点是由半导体材料构成的具有荧光性能的纳米晶体,所述半导体材料选自CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnTe、ZnSe、HgS、HgTe、HgSe、MgS、MgSe、MgTe、CaS、CaSe、CaTe、SrS、SrTe、SrSe、BaS、BaSe、BaTe、GaAs、InGaAs、InP、InAs中一种或几种,所述纳米晶体的粒径为0.1~10nm,在可见光区波长激发下具有荧光性能。 【当前权利人】中国石油化工股份有限公司; 中国石油化工股份有限公司北京化工研究院 【当前专利权人地址】北京市朝阳区朝阳门北大街22号; 北京市朝阳区北三环东路14号 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市); 其他股份有限公司分公司(非上市) 【统一社会信用代码】91110000710926094P; 911100008011250143 【引证次数】1.0 【被引证次数】19 【他引次数】1.0 【被他引次数】19.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】19

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