24小时服务热线
效率高速
品质保障
厂家直供
售后保障
行业新闻
当前位置:行业新闻>

侧结晶式金属真空冶炼还原罐专利

发布时间:2026-06-10

【摘要】 本发明是一种侧结晶式金属真空冶炼还原罐,所述的还原罐竖直放置在还原炉的炉体内,其上、下两端伸出所述的炉体,所述的还原罐内固设有一个导流筒,所述的导流筒呈中空筒状,导流筒外壁与还原罐的内壁之间具有间隙,所述的间隙可供球团料放置,所述的导流筒的筒身上设有多个贯穿壁厚的孔隙,将导流筒的内部与外部连通;在所述的还原罐伸出所述的炉体的上端或者下端侧部设有一个管状的导流装置,所述的导流装置一端伸入还原罐内,另一端与一个结晶器相通。使用本发明,可以加快镁蒸气的流通速度,缩短还原时间;结晶器的拆换工作与还原罐的入料、出料工作相互独立进行,缩短了停产换料时间,提高了工作效率。 【专利类型】发明授权 【申请人】辛卫亚 【申请人类型】个人 【申请人地址】102488 北京市房山区良乡北潞春家园E1号楼203室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】房山区 【申请号】CN200810106386.9 【申请日】2008-05-13 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101676418B 【公开公告日】2010-12-29 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101676418B 【授权公告日】2010-12-29 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C22B5/16; C22B26/20 【发明人】辛卫亚 【主权项内容】一种侧结晶式金属真空冶炼还原罐,其特征在于:所述的还原罐竖直放置在还原炉的炉体内,其上、下两端伸出所述的炉体,所述的还原罐内固设有一个导流筒,所述的导流筒呈中空筒状,导流筒外壁与还原罐的内壁之间具有间隙,所述的间隙可供球团料放置,所述的导流筒的筒身上设有多个贯穿壁厚的孔隙,将导流筒的内部与外部连通;在所述的还原罐伸出所述的炉体的上端或者下端侧部设有一个管状的导流装置,所述的导流装置一端伸入还原罐内,另一端与一个结晶器相通。 : 【当前权利人】辛卫亚 【当前专利权人地址】北京市房山区良乡北潞春家园E1号楼203室 【家族被引证次数】5

  • 【摘要】本发明提供一种装夹机构,包括:连接套(1),具有圆形中空部(9),连接套(1)的外侧壁上设有第一凹槽(10),第一凹槽(10)具有与圆形中空部(9)相通的贯通口;以及固定块(2),可移动地设于第一凹槽(10)中,并且固定块(2)具有
  • 【摘要】本发明提供一种气体流速调节装置,包括:阀体(4);阀芯(5),设于阀体(4)中并可相对于阀体(4)转动;以及步进电机(3),步进电机(3)的输出轴与阀芯(5)固定连接,步进电机(3)的壳体与阀体(4)固定连接,步进电机(3)可驱动阀
  • 【摘要】本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板结构及其制备方法。其中,TFT-LCD 阵列基板结构包括栅线和数据线,栅线和数据线限定了像素区域,并在交叉 处形成薄膜晶体管,薄膜晶体管与形成在像素区域内的像素电极连接,所述 栅线或数据线与基板之
  • 【摘要】一种晶圆承载装置,包括:晶圆架台,聚焦环,设于所述晶圆架台的绝 缘构件,所述绝缘构件的表面具有第一区段以及第二区段,第二区段可与聚 焦环相齐平。本发明由于采用了结构改进的绝缘构件,可避免半导体制程中 产生的等离子体直接侵蚀所述聚焦环
  • 【摘要】本发明公开一种在小屏幕设备上显示大幅面图片的方法及小屏幕设备,所述方 法包括:根据小屏幕设备上的索引图确定待显示的区域;以所述待显示的区域为小 屏幕设备的中心,计算出显示时需要用到的图块,所述图块由大幅面图片分割而成, 可在小屏幕设
  • 【摘要】本发明公开了一种超前加固封浆装置溢流器和带有该溢流器的超前加固 封浆装置,公开的溢流器包括止浆机构,止浆机构包括止浆板,止浆板能够与 内筒前端的止浆口相配合;止浆机构包括臂板、止浆轴和回转机构;止浆轴位 于内筒壁外,可旋转地固定外筒