【摘要】 本发明是一种可半连续化生产的金属真空冶炼还原装置，包括一个还原罐， 所述的还原罐通过一个导流装置与还原罐外部的一个液态结晶器连通，所述的液 态结晶器包括一个结晶器壳体，所述的结晶器壳体具有容置空间，所述的液态结 晶器上设有用来控制容置空间温度的结晶器加热控制装置和用来控制容置空间内 真空度的结晶器抽真空装置，所述的结晶器壳体还设有中间管道，用来连通一个 液态中间包。使用本发明，可以实现的金属真空冶炼的半连续化生产，提高生产 效率，降低生产成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】辛卫亚 【申请人类型】个人 【申请人地址】102488北京市房山区良乡北潞春家园E1号楼203室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】房山区 【申请号】CN200810106387.3 【申请日】2008-05-13 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101676419A 【公开公告日】2010-03-24 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101676419B 【授权公告日】2011-06-15 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】C22B5/16; C22B26/20; C22B5/00; C22B26/00 【发明人】辛卫亚 【主权项内容】1、一种可半连续化生产的金属真空冶炼还原装置，包括一个还原罐，其特征 在于：所述的还原罐通过一个导流装置与还原罐外部的一个液态结晶器连通，所 述的液态结晶器包括一个结晶器壳体，所述的结晶器壳体具有容置空间，所述的 液态结晶器上设有用来控制容置空间温度的结晶器加热控制装置和用来控制容置 空间内真空度的结晶器抽真空装置，所述的结晶器壳体还设有中间管道，用来连 通一个液态中间包。 【当前权利人】辛卫亚 【当前专利权人地址】北京市房山区良乡北潞春家园E1#楼203室 【被引证次数】1 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】1
