【摘要】 本发明提供的紫外光学元件激光损伤阈值的探测方法及其装置，利用激光器发出的激光辐照在被测紫外光学元件表面所产生的荧光，观测紫外光学元件表面的形貌变化，该激光器是KrF激光器，通过观测紫外光学元件表面荧光强度分布的畸变来观测紫外光学元件表面的形貌变化。该探测方法及装置可直观观测损伤的产生和发展过程，适于各类紫外光学元件表面损伤的在线测试，且灵敏度较高。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国原子能科学研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】102413 北京市275信箱65分箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】房山区 【申请号】CN200810007917.9 【申请日】2008-02-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101226148B 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101226148B 【授权公告日】2010-06-16 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G01N21/64; G01N21/958 【发明人】高智星; 汤秀章; 向益淮 【主权项内容】紫外光学元件激光损伤阈值的探测方法，利用探测装置中的激光器发出的激光辐照在被测紫外光学元件表面，观测紫外光学元件表面的形貌变化，其特征在于：所述的探测装置包含激光辐照系统，辐照光参数监测系统，损伤探测系统，其中，所述的激光辐照系统包含有KrF激光器(1)，像传递透镜f1、f2、f3，第一45°高反镜(2a)，第二45°高反镜(2b)，能量衰减器(3)，能量计(4)，分光片(5)，待测紫外光学元件(6)，CCD阵列探测器(8)，该装置的光路是，由KrF激光器(1)发出激光，由透镜f1、f2组成一个像传递将激光引至待测紫外光学元件(6)，在f1、f2像传递中间置有第一45°高反镜(2a)、第二45°高反镜(2b)、能量衰减器(3)、能量计(4)、分光片(5)，由f2、f3组成另一个像传递，将待测紫外光学元件(6)发出的荧光引至CCD阵列探测器(8)，在f2、f3组成的像传递中间置有第二45°高反镜(2b)；所述的激光辐照系统，其辐照方式是用相同能量光脉冲以相同时间间隔在元件的同一区域辐照5～100次，其辐照光斑直径为1～2mm，其辐照区域间隔取测试点中心距4～6mm，脉冲宽度为20～24ns；所述的观测紫外光学元件表面的形貌变化是观测紫外光学元件表面荧光强度分布的畸变。。-官网 【当前权利人】中国原子能科学研究院 【当前专利权人地址】北京市275信箱65分箱 【引证次数】2.0 【被引证次数】1 【他引次数】2.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】36
