【摘要】 本发明涉及一种掩膜版及其制造方法，其中该掩膜版包括：上基板；第一透明导电排线，位于所述上基板并朝第一方向排列；第一透明绝缘膜，位于所述第一透明导电排线上方并覆盖所述上基板；下基板；第二透明导电排线，位于所述下基板并朝第二方向排列，所述第二方向垂直于所述第一方向；第二透明绝缘膜，位于所述第二透明导电排线上方并覆盖所述下基板；所述上基板和所述下基板之间夹有液晶。本发明的掩膜版，通过第一透明导电排线和第二透明导电排线形成垂直电场，形成透射区域和非透射区域。从而克服了现有的制造工艺中需要多个掩膜版的缺陷。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京京东方光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100176北京市经济技术开发区西环中路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】大兴区 【申请号】CN200810247423.8 【申请日】2008-12-31 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101770091A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02F1/13; G02F1/1333 【发明人】周伟峰; 郭建; 明星 【主权项内容】一种掩膜版，其特征在于，包括：上基板；第一透明导电排线，位于所述上基板并朝第一方向排列；第一透明绝缘膜，位于所述第一透明导电排线上方并覆盖所述上基板；下基板；第二透明导电排线，位于所述下基板并朝第二方向排列，所述第二方向垂直于所述第一方向；第二透明绝缘膜，位于所述第二透明导电排线上方并覆盖所述下基板；所述上基板和所述下基板之间夹有液晶。 【当前权利人】北京京东方光电科技有限公司 【当前专利权人地址】北京市经济技术开发区西环中路8号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】911103027493533932 【被引证次数】13 【被自引次数】7.0 【被他引次数】6.0 【家族被引证次数】13
