【摘要】 。本发明提供一种光刻工艺的自动监控方法及系统，其中监控方法包括以下 步骤：a.采集工序单元动作的时间；b.存储工序单元动作的时间；c.判断动 作的工序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若 否，则执行步骤a；d.按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式， 计算监控时间参数；e.判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范 围，其中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。其中监控系统包括以 下模块：工序单元触发模块、数据采集模块，数据存储模块、判断模块、计算 模块、比较模块和控制模块。本发明可解决传统光刻工艺无法实现工序单元时 间参数监控的问题。 【专利类型】发明申请 【申请人】中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】201203上海市张江路18号 【申请人地区】中国 【申请人城市】上海市 【申请人区县】浦东新区 【申请号】CN200810041567.8 【申请日】2008-08-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101650533A 【公开公告日】2010-02-17 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101650533B 【授权公告日】2013-04-17 【授权公告年份】2013.0 【发明人】杨晓松; 刘洪刚 【主权项内容】1、一种光刻工艺的自动监控方法，用于光刻工艺装置中执行的工序单元时间参 数的监控，其特征在于，它包括以下步骤： a、采集工序单元动作的时间；b、存储工序单元动作的时间；c、判断动作的工 序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若否，则 执行步骤a；d、按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式，计算监 控时间参数；e、判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范围，其 中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。 【当前权利人】中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 【当前专利权人地址】上海市张江路18号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】91310115710939629R 【被引证次数】TRUE 【家族被引证次数】TRUE
