【摘要】 本发明提供一种间隔片阵列，该间隔片阵列具有多个阵列排布的通孔和围绕该通孔的遮 光区，该间隔片阵列的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。本发明还提供一种上述间隔片的制作 方法。本发明采用黑化的聚二甲基硅氧烷材料制作间隔片，原材料成本低，在制作过程中， 利用旋转涂布法可以有效地控制聚二甲基硅氧烷材料层的厚度，从而降低间隔片厚度。且利 用灰阶光罩可避免繁琐的对准流程，从而适合大批量生产。 ： 【专利类型】发明申请 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810304233.5 【申请日】2008-08-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101661145A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02B7/02; G03F7/00; G03F1/00; G03F1/08; G03F7/075 【发明人】庄信弘 【主权项内容】1.一种间隔片阵列，该间隔片阵列具有多个阵列排布的通孔和围绕 该通孔的遮光区，该间隔片阵列的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。 【当前权利人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号; 中国台湾新北市土城区中山路66号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】1
