【摘要】 一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内。所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，且所述镀膜挡板靠近所述待镀元件承载架。所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板可将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。本发明所提供的光学镀膜装置可精确控制镀膜厚度，并提高镀膜品质。。： 【专利类型】发明申请 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810306247.0 【申请日】2008-12-15 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101750639A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101750639B 【授权公告日】2012-06-20 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G02B1/10; C23C14/24; C23C14/30 【发明人】吴佳颖 【主权项内容】一种光学镀膜装置，其包括真空镀膜室、待镀元件承载架及镀膜源，所述待镀元件承载架及镀膜源设置于所述真空镀膜室内，其特征在于，所述光学镀膜装置还包括一镀膜挡板，所述镀膜挡板设置于所述待镀元件承载架与所述镀膜源之间，将所述真空镀膜室分隔成两个空间，所述镀膜挡板包括一第一挡板及一第二挡板，所述第一挡板具有一通孔，所述通孔对应所述待镀元件承载架与镀膜源设置，以使所述镀膜源产生的镀膜材料气体通过所述通孔到达置于待镀元件承载架的待镀元件上，所述第二挡板可相对所述第一挡板移动并分别遮挡或暴露所述通孔。 【当前权利人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号; 中国台湾新北市土城区中山路66号 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【被引证次数】13 【被自引次数】2.0 【被他引次数】11.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】13
