【摘要】 一种用于减少投影机残影的遮光片，其包括一个透明基板及至少一个遮光膜，所述遮光膜设置有透光部，所述透光部是透明膜结构，所述遮光膜形成于所述透明基板的至少一表面上。由于该遮光片采用于透明基板上覆有遮光膜的方式，所以使得该遮光片的质量分布更加均匀，从而更快的完成动平衡调整，达到提高生产效率的目的。另，本发明还提供一种使用该遮光片的投影系统。 【专利类型】发明授权 【申请人】鸿富锦精密工业(深圳)有限公司; 鸿海精密工业股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】宝安区 【申请号】CN200810301176.5 【申请日】2008-04-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101561621B 【公开公告日】2010-12-08 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101561621B 【授权公告日】2010-12-08 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G03B21/14 【发明人】何侑伦; 简义本 【主权项内容】一种用于减少投影机残影的遮光片，其包括一个透明基板及至少一个遮光膜，所述遮光膜设置有透光部，所述透光部是透明膜结构，所述遮光膜形成于所述透明基板的至少一表面上。 【当前权利人】国家电网公司; 国网河南省电力公司周口供电公司 【当前专利权人地址】北京市西城区长安街86号; 河南省周口市川汇区太昊路 【专利权人类型】有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】914403007084307436 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】6
