【摘要】 本发明公开了一种微型片式元件端头处理装置，其包括一设置在盛放镀液之镀槽上的总固定支架，并在该总固定支架上设置有一可编程逻辑控制器以及一滚筒转动机构、一平移摆臂机构，通过该可编程逻辑控制器控制所述滚筒转动机构以及所述平移摆臂机构的运转，保持一盛放被镀微型片式元件的滚筒在镀液中央运动；所述滚筒固定在一滚筒基座上，所述滚筒基座设置在所述滚筒转动机构上；所述可编程逻辑控制器还控制连接至少一延伸入所述滚筒内的阴极管。本发明处理装置由于采用了由PLC控制的滚筒装置，通过对滚筒装置运动轨迹的控制，实现了在滚筒运动时保证滚筒内的镀液均匀起作用，方便了对被镀元件的均匀处理，提高了产品的良率。 【专利类型】发明授权 【申请人】深圳市宇阳科技发展有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园北区朗山二号路齐民道3号 【申请人地区】中国 【申请人城市】深圳市 【申请人区县】南山区 【申请号】CN200810216022.6 【申请日】2008-09-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101358375B 【公开公告日】2010-09-01 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101358375B 【授权公告日】2010-09-01 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】C25D17/16; C25D17/22 【发明人】初殿生 【主权项内容】一种微型片式元件端头处理装置，其特征在于，包括一设置在盛放镀液之镀槽上的总固定支架，并在该总固定支架上设置有一可编程逻辑控制器以及一滚筒转动机构、一平移摆臂机构，通过该可编程逻辑控制器控制所述滚筒转动机构以及所述平移摆臂机构的运转，保持一盛放被镀微型片式元件的滚筒在镀液中央运动；所述滚筒固定在一滚筒基座上，所述滚筒基座设置在所述滚筒转动机构上；所述可编程逻辑控制器还控制连接至少一延伸入所述滚筒内的阴极管。 【当前权利人】深圳市宇阳科技发展有限公司 【当前专利权人地址】广东省深圳市南山区高新技术产业园北区朗山二号路齐民道3号 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳法人独资) 【统一社会信用代码】91440300726198175M 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】8
