【摘要】 本发明公开了两种真空镀膜成图方法，其中方法一包括如下步骤：(1)制备玻璃胚体；(2)在该玻璃胚体需要成图的内侧表面部位进行成图预处理；(21)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；(22)将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；(23)除去所述薄膜；(3)将胚体真空镀膜，在玻璃胚体表面制得镀膜层；(4)将胚体成图部位镂空，将喷涂在所述胚体上的蜡层加热移除，成图。本发明还提供了实现前述方法的设备及采用前述方法的制品。本发明的优点在于：由于本发明提供的方法，可以直接在镀膜层上获得图案，且获得的图案精度高、效果好；本发明提供的专用设备，生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好。 （，） 【专利类型】发明申请 【申请人】温晋奕 【申请人类型】个人 【申请人地址】523000 广东省东莞市寮步镇横坑管理区三禾工业区大秦厂 【申请人地区】中国 【申请人城市】东莞市 【申请人区县】东莞市 【申请号】CN200810183536.6 【申请日】2008-12-18 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101746958A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】C03C17/06 【发明人】温晋奕 【主权项内容】一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤：(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)在该玻璃胚体需要成图的内侧表面部位，进行成图预处理；(21)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；(22)将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；(23)除去所述薄膜；(3)将胚体真空镀膜，在玻璃胚体表面制得镀膜层；(4)将胚体成图部位镂空，将喷涂在所述胚体上的蜡层加热移除，成图。所述的镀膜层为镀铝膜层，其厚度为0.001～0.01毫米。 【当前权利人】温晋奕 【当前专利权人地址】广东省东莞市寮步镇横坑管理区三禾工业区大秦厂 【引证次数】3.0 【被引证次数】3 【自引次数】2.0 【他引次数】1.0 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】3
