【摘要】 本发明公开了一种用于超高真空系统的中空阳极离子源。它的阴极(8) 下部为水冷腔(10)、上部为离化室(28)，其外依次套装绝缘套和金属套筒， 水冷腔(10)下端口为贯通焊接有进水管(20)和出水管(21)的盖板(11)， 出水管(21)经水管绝缘套(23)、水管密封圈(25)与法兰(13)绝缘密封 连接，离化室(28)底部连通有其下端部位于气管孔(19)中的离化室进气 管(27)，该管经气管绝缘套(17)、气管密封圈(16)与气管孔(19)绝缘 密封连接，气管孔(19)的底部焊接进气管(18)，绝缘套与法兰(13)间置 有密封圈(14)，金属套筒的上端与阳极(3)固定连接、下端与法兰(13) 抵触连接。它于超高真空下产生了能量小于30eV的低能离子束流。 【专利类型】发明申请 【申请人】中国科学院合肥物质科学研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】230031安徽省合肥市1110信箱 【申请人地区】中国 【申请人城市】合肥市 【申请人区县】蜀山区 【申请号】CN200810195737.8 【申请日】2008-08-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101661861A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101661861B 【授权公告日】2011-09-14 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01J27/02; C23C14/22 【发明人】徐大林; 邱凯; 李新化; 王玉琦; 曹先存; 尹志军; 罗向东 【主权项内容】1、一种用于超高真空系统的中空阳极离子源，包括法兰(13)上依次同 轴串接的阴极(8)、带有中心喷孔(31)的阳极(3)和外罩磁铁罩(2)的 永磁体(32)，其特征在于： 所述阴极(8)的下部为水冷腔(10)、上部为中空的离化室(28)，其外 依次套装有绝缘套和金属套筒，所述绝缘套为相对接的绝缘底套(9)和绝缘 顶套(29)，所述绝缘顶套(29)的中心置有通气孔(30)，所述金属套筒为 焊接连接的上金属套筒(4)和下金属套筒(7)，所述下金属套筒(7)的内 壁上置有肩台(6)，所述肩台(6)与所述绝缘底套(9)的上表面抵触连接； 所述水冷腔(10)的下端口为与其焊接连接的盖板(11)，所述盖板(11) 上贯通焊接连接有进水管(20)和出水管(21)，所述进水管(20)套装于出 水管(21)之中，所述出水管(21)分别经带有凸肩(24)的水管绝缘套(23) 与所述法兰(13)的带肩台的水管孔(22)绝缘连接，经水管密封圈(25) 和水管绝缘套(23)与所述绝缘底套(9)和法兰(13)密封连接； 所述离化室(28)的底部连通有离化室进气管(27)，所述离化室进气管 (27)的下端部位于法兰(13)的气管孔(19)中，并分别经其中置有的气 管绝缘套(17)与所述法兰(13)的气管孔(19)绝缘连接，经气管密封圈 (16)和气管绝缘套(17)与所述绝缘底套(9)和气管孔(19)密封连接， 所述气管孔(19)的底部焊接连接贯穿所述法兰(13)的进气管(18)； 所述水管密封圈(25)和气管密封圈(16)外的绝缘底套(9)与法兰(13) 间置有法兰密封圈(14)，所述法兰密封圈(14)与水管密封圈(25)或气管 密封圈(16)间的法兰(13)中贯穿焊接连接有预抽气管(15)； 所述下金属套筒(7)经其上的固定孔(12)、法兰螺栓(26)与法兰(13) 抵触连接，所述上金属套筒(4)经其上的螺孔(5)、固定螺栓(1)与阳极 (3)、永磁体(32)和其外罩的磁铁罩(2)固定连接。 【当前权利人】中国科学院合肥物质科学研究院 【当前专利权人地址】安徽省合肥市1110信箱 【统一社会信用代码】121000007178068020 【引证次数】1.0 【被引证次数】11 【自引次数】1.0 【被他引次数】11.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】11
