【摘要】 本发明属于薄膜涂层技术领域，涉及一种基于层状组装技术在光学基底表面制备具有防雾抗反射双重功能组装膜涂层的方法。这种防雾抗反射涂层可以减少表面对光线的反射损失，也可以有效抑制水滴在涂层表面的结雾现象。本专利制备的防雾抗反射涂层不但可以在平面基底进行制备，也可以在一些具有复杂形状的光学基底表面进行制备。在制备过程中完全基于水溶液，同时又不需要采用复杂的仪器和原料，因此是一种绿色环保、价格低廉的制备技术。在制备过程中的高温热处理过程使得薄膜涂层获得了优异的机械稳定性，因而这种涂层能够满足日常使用中对薄膜涂层机械性能的要求。本专利制备方法的使用有望实现防雾抗反射涂层在更加广泛的领域中的应用。 【专利类型】发明授权 【申请人】吉林大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】130023 吉林省长春市朝阳区前进大街2699号 【申请人地区】中国 【申请人城市】长春市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810051126.6 【申请日】2008-08-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101344601B 【公开公告日】2010-07-28 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101344601B 【授权公告日】2010-07-28 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】G02B1/10; G02B1/11; B08B3/04; G02B1/111 【发明人】孙俊奇; 张连斌; 沈家骢 【主权项内容】 。一种基于层状组装技术制备防雾抗反射涂层的方法，其包括如下步骤：A.基底的表面处理：将基底依次用甲苯、丙酮、氯仿、乙醇和水进行清洗；然后通过自组装方法或聚电解质吸附法，在基底表面上引入氨基、羧基或羟基的有利于多层膜制备的基团；B.组装膜涂层的制备：将步骤A获得的基底首先浸入与其表面电荷属性相反的聚阴离子构筑基元溶液或聚阳离子复合物构筑基元溶液中浸泡5～30min，用浸泡或冲洗的方法去除基底表面物理吸附的构筑基元；然后再浸入聚阳离子复合物构筑基元溶液或聚阴离子构筑基元溶液中浸泡5～30min，用浸泡或冲洗的方法去除基底表面物理吸附的构筑基元，从而在基底上完成一个周期的具有两种构筑基元的层状组装膜涂层的制备；其中，所述聚阴离子构筑基元溶液中的聚阴离子为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚乙烯基磺酸或聚苯乙烯基磺酸，其结构单位的摩尔浓度为0.1～10mM，pH值为3～11；所述聚阳离子复合物构筑基元溶液是由聚阳离子与无机硅酸盐形成，聚阳离子结构单位的摩尔浓度为0.1～10mM，聚阳离子与硅酸根离子的摩尔比为1∶5～5∶1，聚阳离子复合物构筑基元溶液的pH值为3～11，所述聚阳离子为聚二甲基二烯丙基氯化铵、聚烯丙基胺或聚乙烯基胺，所述无机硅酸盐为水玻璃、偏硅酸钠或硅酸钾；C.多层组装膜涂层的制备：重复步骤B，进而在基底上得到厚度可控的沉积有多个周期的层状组装膜涂层；D.煅烧制备防雾抗反射涂层：将由步骤C得到的沉积有多个周期的组装膜涂层的基底置于500～800℃的高温马弗炉内煅烧1～10小时，组装膜涂层中的有机物组分在高温作用下灰化，从而留下完全由SiO2材料形成的机械性能良好的纳米多孔，得到具有防雾及抗反射作用的纳米多孔涂层。 【当前权利人】吉林大学 【当前专利权人地址】吉林省长春市朝阳区前进大街2699号 【统一社会信用代码】121000004232040648 【家族被引证次数】15
