【摘要】 本发明是一种可挠式超级电容结构与其制备方法，该可挠式超级电容的可挠式电极复合层，利用金属结构刺穿并固定其碳纤维层与金属集电层，使电极复合层于挠曲时还能使其复合层间彼此密合。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人纺织产业综合研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾台北县土城市承天路6号 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810174894.0 【申请日】2008-11-11 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740223A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740223B 【授权公告日】2012-04-25 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】H01G9/00; H01G9/155; H01G9/048; H01G9/058; H01G9/08 【发明人】林文婷; 陈宏昌; 蔡晓宽 【主权项内容】一种可挠式超级电容结构，至少包含：两可挠式电极复合层，各包含一碳纤维层与一金属集电层以金属结构刺穿固定两层，并使该碳纤维层与该金属集电层贴合；以及一隔离层，位于该两可挠式电极复合层之间。 【当前权利人】财团法人纺织产业综合研究所 【当前专利权人地址】中国台湾台北县土城市承天路6号 【家族引证次数】7.0
