【摘要】 本发明涉及一种无光罩式曝光系统，其包括发光源、第一准直器、第一反射镜、第二反射镜、图案产生器、投射透镜、第一杂散光过滤器、衬底、平台和控制装置。由于所述第一反射镜和所述第二反射镜的配置，使得所述发光源所发出的所述光束的光路径得以延长，因此，所述发光源的位置可以设置于远离所述衬底，因而所述发光源所发出的光线不会因为散射作用而直接影响所述衬底上的所述光阻层。因此，所述光阻层所曝出的图案的图形会较均匀，可以降低产品不良率。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人金属工业研究发展中心 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810190846.0 【申请日】2008-12-31 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101770177A 【公开公告日】2010-07-07 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】林长庆; 叶光明 【主权项内容】一种无光罩式曝光系统，其包括：发光源，其用以发出光束；第一准直器，其用以使所述光束形成准直光束；第一反射镜，其用以改变所述第一准直器的光束的行进方向；第二反射镜，其用以改变所述第一反射镜的光束的行进方向；图案产生器，其可切换出多种图案，将所述第二反射镜的光束反射出对应的图案以形成图案化光束；投射透镜，其可调整焦距，放大或缩小所述图案产生器的图案化光束；第一杂散光过滤器，其用以滤除所述图案化光束内的杂散光；衬底，其表面上具有光阻层，通过所述第一杂散光过滤器的图案化光束投射于所述光阻层上；平台，其承载所述衬底；以及控制装置，其电性连接到所述图案产生器，用以控制所述图案产生器所产生的图案。 【当前权利人】财团法人金属工业研究发展中心 【当前专利权人地址】中国台湾 【引证次数】1.0 【被引证次数】1 【他引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】1
