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光电元件专利

发布时间:2026-06-19

【摘要】 一种光电元件,包含n型覆盖层;p型覆盖层;以及发光层,位于该n 型覆盖层与该p型覆盖层之间。发光层由多个势垒层与多个阱层交错堆叠而 成的多重量子阱结构,其中于最靠近p型覆盖层的势垒层掺入可以改变其势 垒的杂质,以形成势垒调变层。上述元件具有提高发光效率的优点。 【专利类型】发明申请 【申请人】晶元光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810212831.X 【申请日】2008-09-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101667612A 【公开公告日】2010-03-10 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101667612B 【授权公告日】2011-11-02 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L33/00; G02F1/13357; H05B37/00 【发明人】朱瑞溢; 郭政达; 许育宾; 王俊凯; 吴欣显; 林义杰 【主权项内容】1.一种光电元件,包含: n型覆盖层; p型覆盖层;以及 发光层,位于该n型覆盖层与该p型覆盖层之间,且该发光层由多个势 垒层与多个阱层交错堆叠而形成多重量子阱结构,其中该多重量子阱结构包 含势垒调变层,该势垒调变层为至少一层最靠近该p型覆盖层的势垒层,且 包含杂质使该势垒调变层的势垒与其他势垒层的势垒不同。 【当前权利人】晶元光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【被引证次数】8 【被他引次数】8.0 【家族引证次数】1.0 【家族被引证次数】8

  • 【摘要】本发明提供一半导体集成电路装置及其制造方法,其可选择性对第一与第二晶体管的沟道施加应力。其中一第一晶体管的栅极结构包括一应力源,其在第一晶体管的沟道中产生应力,且一第二晶体管的栅极结构与一材料层接触,而材料层在第二晶体管的沟道中产生
  • 【摘要】一种利用微影工艺制作发光二极管的封装胶材的方法,于一承载有复 数个发光二极管芯片的基板上,涂布一光阻层覆盖该些发光二极管芯片, 接着对该光阻层施以曝光、显影,以于该光阻层形成复数个镂空区,且使 该些发光二极管芯片位于该些镂空区中;再
  • 【摘要】本发明公开了盐酸拓扑替康的新的晶形及其制备方法。【专利类型】发明申请【申请人】台湾神隆股份有限公司【申请人类型】企业【申请人地址】中国台湾【申请人地区】中国【申请人城市】台湾省【申请号】CN200880020202.5【申请日】20
  • 【摘要】本发明提供一种彩色滤光片及其制造方法。此彩色滤光片具有目标透射 率分布。首先,提供一基底,基底上已形成第一光电侦测器。然后,在第一 光电侦测器上形成第一像素,第一像素具有第一透射率分布。形成第一像素 的步骤如下。首先,在第一光电侦测
  • 【摘要】本发明涉及一种背光模块及应用其的液晶显示器。背光模块至少包括:一 导光板具有一入光面,入光面具有一中心区;以及一光源模块,包含:一载板, 具有一平面及一宽度;以及一发光单元设置于载板的平面上,发光单元与宽度 两端的距离不相等;其中,
  • 【摘要】本发明涉及一种发光二极管的电流供电电路及电流控制电路,该电流供 电电路用以驱动第一组及第二组发光二极管,包含:主电源整流电路;初级 直流-直流转换电路,用以将整流输入电压分别转换为第一及第二脉冲宽度调 制电压;第一电流控制电路,其输