【摘要】 本发明揭示一具有应力平衡层的光电元件结构及其制造方法。此光电元件结构包含高导热基板，应力平衡层位于高导热基板之上，金属反射层位于应力平衡层之上，及外延结构位于金属反射层之上。 该数据由<>整理 【专利类型】发明申请 【申请人】晶元光电股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810177996.8 【申请日】2008-11-26 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740674A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740674B 【授权公告日】2011-08-31 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】H01L33/00 【发明人】黄建富; 许嘉良 【主权项内容】一光电元件，其制造方法包含：提供成长基板，其具有第一平面及第二平面；形成外延结构于该成长基板的第一平面上，其至少具有n型半导体层、发光层及p型半导体层；形成金属反射层于该外延结构之上；以电化学沉积法或无电化学沉积法形成应力平衡层于该金属反射层与该外延结构相对的一侧；以电化学沉积法或无电化学沉积法形成高导热基板于该应力平衡层与该外延结构相对的一侧，其中该应力平衡层可降低该高导热基板与该外延结构之间的内应力，且该高导热基板与该外延结构的热膨胀系数相差不小于5ppm/℃；移除该成长基板，以暴露该外延结构的一表面；形成电极于该外延结构暴露的该表面上，其中该电极与该外延结构形成电连结；由上至下自该外延结构蚀刻至该高导热基板，以形成多道切割道；以及沿着该切割道切割以形成该光电元件。 【当前权利人】晶元光电股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹市 【被引证次数】7 【被他引次数】7.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】7
