【摘要】 本发明公开了一种光刻装置，其包含一光源，提供一第一光线和一第二光线、一光掩模、一偏光控制系统，介于光源与光掩模之间、一晶片平台，用来放置一晶片，以及一透镜，介于光掩模与晶片平台之间，其中偏光控制系统将入射的第一光线的偏振方向，转换成一第一偏振方向，且将入射的第二光线的偏振方向转换成一第二偏振方向，其中第一偏振方向和第二偏振方向相异。本发明可依据同一光掩模上相异的布局图案，个别控制照射在各个布局图案上的入射光线的偏振方向，进而提升图案解析度。 【专利类型】发明申请 【申请人】南亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810166127.5 【申请日】2008-10-08 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101713925A 【公开公告日】2010-05-26 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101713925B 【授权公告日】2013-01-09 【授权公告年份】2013.0 【IPC分类号】G03F7/20; G02F1/13; G02B5/30 【发明人】徐维成 【主权项内容】一种光刻装置，其特征在于包含：一光源；一光掩模，具有一第一布局图案和一第二布局图案，其中该第一布局图案包含一第一长轴，该第二布局图案包含一第二长轴，其中该第一长轴和该第二长轴方向相异；一偏光控制系统，介于该光源与该光掩模之间，其中该偏光控制系统包含一第一偏光控制单元和一第二偏光控制单元，其中该第一偏光控制单元将由该光源射入该偏光控制系统的一第一光线的偏振方向，转换为和该第一长轴平行，该第二偏光控制单元将由该光源射入该偏光控制系统的一第二光线的偏振方向，转换为和该第二长轴平行；一晶片平台，用来放置一晶片；以及一透镜，介于该光掩模与该晶片平台之间。 【当前权利人】南亚科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【家族引证次数】5.0
