【摘要】 本发明是提出一种触控面板及其制造方法，所述方法其步骤包括提供一 基板；形成一导电层于该基板；形成一电路于该导电层；以及形成折射率介 于该导电层折射率的正负0.05间的一绝缘层于该导电层。本发明仅仅控制 一膜层的折射率，就能够遮蔽导电层在蚀刻电路后所产生的光学干涉条纹， 能够提升生产性并降低制造成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】时纬科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810146813.6 【申请日】2008-08-25 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101661355A 【公开公告日】2010-03-03 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G06F3/044; G06F3/041 【发明人】曾馨贤 【主权项内容】1.一种触控面板的制造方法，其步骤包括： (a)提供一基板； (b)形成一导电层于该基板上； (c)形成一电路于该导电层上；以及 (d)形成折射率介于该导电层折射率的正负0.05间的一绝缘层于该导电 层上。。 【当前权利人】时纬科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【被引证次数】10 【被他引次数】10.0 【家族被引证次数】10
