【摘要】 一种离心沉淀方法，包括以下的步骤。提供一发光结构。发光结构包括一支架、一晶片及一胶体。支架具有一凹槽。晶片设置在凹槽的一底面上。胶体包括一胶材及多数个荧光粒子。胶材填充在凹槽内，且覆盖晶片。荧光粒子分布在胶材中。接着，转动发光结构，借此使荧光粒子往凹槽的底面的方向移动。 ： 【专利类型】发明申请 【申请人】威力盟电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810186726.3 【申请日】2008-12-12 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101752476A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01L33/00 【发明人】苏耀庆; 邓嘉玲; 吕铭伦 【主权项内容】一种离心沉淀方法，包括以下的步骤：(a)提供一发光结构，该发光结构包括一支架、一晶片及一胶体，该支架具有一凹槽，该晶片设置在该凹槽的一底面上，该胶体包括一胶材及多个荧光粒子，该胶材填充在该凹槽内，且覆盖该晶片，该些荧光粒子分布在该胶材中；以及(b)转动该发光结构，借此使该些荧光粒子往该凹槽的该底面的方向移动。 【当前权利人】威力盟电子股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【被引证次数】18 【被他引次数】18.0 【家族被引证次数】18
