【摘要】 一种模具吸气结构改良，其包括有：一模座本体、二密封结构、多个吸 气孔以及多条吸气沟，其中该二密封结构为间隔地设置在该模座本体上并且 该二密封结构之间形成一吸气区，该多个吸气孔设置在该吸气区内，该多条 吸气沟设置在吸气区内并连接该多个吸气孔，借助该吸气区、该多个吸气孔 与该多个吸气沟的互相配合，使薄膜能快速且平整的吸附，以提升模内装饰 (In-Mold Decoration，IMD)制程的良品率。 【专利类型】发明申请 【申请人】纬创资通股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台北县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810149411.1 【申请日】2008-09-12 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101670668A 【公开公告日】2010-03-17 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】B29C63/20; B29C63/00 【发明人】洪俊彦; 谢振丰 【主权项内容】1、一种模具吸气结构改良，该模具吸气结构使用在模内装饰制程中， 而该模具吸气结构包括： 一模座本体； 至少二密封结构，该二密封结构呈内、外分布方式设置在该模座本体中， 该二密封结构之间形成一吸气区；以及 多个吸气孔，该多个吸气孔穿设在该模座本体中且位于该吸气区，且该 多个吸气孔对该吸气区进行吸气。。 【当前权利人】纬创资通股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台北县
