【摘要】 本发明公开了一种光学玻璃蚀刻装置及方法，应用于将大尺寸玻璃予以蚀 刻及/或薄化的情况下，使用具斜度的传动线方式而减少光学玻璃应力，并采 取扫描式瀑布层流酸液涂布型式，自光学玻璃上方以前后及/或左右来回扫描 的移动方式，均匀地释出蚀刻溶液，以均匀地蚀刻及/或薄化光学玻璃。利用 本发明的光学玻璃蚀刻装置进行光学玻璃蚀刻方法时，由于光学玻璃呈现倾斜 状态，因而减少了于输送传动时玻璃本身的机械强度及物性限制，避免了采用 直立式垂直输送传动时所产生的问题，且，由于对光学玻璃采取扫描式瀑布层 流酸液涂布，因而可提升蚀刻速率、以及光学玻璃蚀刻均匀性。 【专利类型】发明申请 【申请人】光捷国际股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】台湾省台北市 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810132179.0 【申请日】2008-07-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101633563A 【公开公告日】2010-01-27 【公开公告年份】2010 【发明人】严立巍; 范国胜 【主权项内容】1.一种光学玻璃蚀刻方法，其特征在于，该光学玻璃蚀刻方法包含以下 步骤： 以倾斜方式摆放一光学玻璃；以及 采取扫描式瀑布溢流酸液涂布型式，从光学玻璃上方以扫描移动方式， 均匀地释出蚀刻溶液，使该光学玻璃被均匀地蚀刻； 其中，基于以倾斜方式摆放光学玻璃，蚀刻该光学玻璃所产生的生成物， 将随着剩余的该蚀刻溶液顺着该光学玻璃的倾斜方向流下，致使该生成物不 会残留在该光学玻璃上。 【当前权利人】光捷国际股份有限公司 【当前专利权人地址】台湾省台北市 【被引证次数】14 【家族被引证次数】14
