【摘要】 一种图案化透明基板及其制法，其制法包括在一透明基板的表面形成一光学镀膜层，并于该第一光学镀膜层上形成具有预定形状的第一图案化印刷层，接着去除该第一光学镀膜层未被该第一图案化印刷层覆盖的部分，最后移除该第一图案化印刷层，留下具有预定图形的第一光学镀膜层，即完成本发明的图案化透明基板，其多色处理程序的边界效应轻微，其中第一光学镀膜层无边界效应，故具有高纯色、高透光性、多图案、多色彩的优点及功效。 【专利类型】发明申请 【申请人】绿点高新科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾台中县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810167699.5 【申请日】2008-10-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101722785A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】B44C1/22; B44C1/04; G02B1/10 【发明人】廖本逸; 萧正晔; 陈立锜; 林威豪; 易声宏 【主权项内容】一种图案化透明基板的制法，其包括下列步骤：[1]光学镀膜步骤：在一透明基板的一表面上以光学镀膜形成一第一光学镀膜层；[2]印刷步骤：以印刷技术在该第一光学镀膜层上的局部区域形成一预定形状的第一图案化印刷层，该印刷技术选自柯氏印刷术或喷墨印刷术；[3]去除未被遮蔽的光学镀膜层步骤：以一第一溶剂洗去未被该第一图案化印刷层覆盖的第一光学镀膜层；[4]完成步骤：以一第二溶剂洗去该第一图案化印刷层。 ： 【当前权利人】绿点高新科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾台中县 【被引证次数】5 【被自引次数】1.0 【被他引次数】4.0 【家族被引证次数】5
