【摘要】 本发明涉及一种薄膜清洗装置，包括两个电极板与过滤单元，其中过滤单元是配置于该两个电极板之间。过滤单元包括支撑板与薄膜，而薄膜是配置于支撑板上。通过在薄膜区域产生电场，并对薄膜进行逆洗过程，可有效清除薄膜上的积垢物。本发明可使薄膜在清洗后能回复至更接近于初始状态时的通量，能有效消除薄膜结垢与生物性堵塞，并可有效排除的问题，使薄膜可有效使用以解决薄膜淘汰的不经济现象。 【专利类型】发明申请 【申请人】财团法人工业技术研究院 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】中国台湾新竹县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810168352.2 【申请日】2008-10-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101721915A 【公开公告日】2010-06-09 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101721915B 【授权公告日】2012-07-25 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】B01D65/02; B01D65/00 【发明人】陈建宏; 朱振华; 张王冠; 周珊珊 【主权项内容】一种薄膜清洗装置，包括：两个电极板；一过滤单元，配置于该电极板之间，而该过滤单元包括：一支撑板；以及一薄膜，配置于该支撑板上。。 【当前权利人】财团法人工业技术研究院 【当前专利权人地址】中国台湾新竹县 【被引证次数】4 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】4
