【摘要】 本发明提供一种制作光掩模的方法。首先，提供一透明基板，且在透明 基板上形成一填充图案层与一掩模图案层。然后，在透明基板与掩模图案层 上形成一晶体材料层，使填充图案层之间填满晶体材料层。之后，移除掩模 图案层以及位于掩模图案层上的晶体材料层，以在透明基板上形成一光子晶 体图案层。最后，移除填充图案层。 【专利类型】发明申请 【申请人】南亚科技股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国台湾桃园县 【申请人地区】中国 【申请人城市】台湾省 【申请号】CN200810149289.8 【申请日】2008-09-27 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685253A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G03F1/00 【发明人】林佳蔚; 黄登烟 【主权项内容】1.一种制作光掩模的方法，其特征在于包括： 提供一透明基板，且于该透明基板的一表面上覆盖一填充材料层； 图案化该填充材料层，以形成一填充图案层，且曝露出部分该透明基板； 在该透明基板与该填充图案层上形成一晶体材料层，并使该填充图案层 之间填满该晶体材料层； 移除该填充图案层上的该晶体材料层，以在该透明基板上形成一第一光 子晶体图案层；以及 移除该填充图案层。 【当前权利人】南亚科技股份有限公司 【当前专利权人地址】中国台湾桃园县 【被引证次数】2 【被他引次数】2.0 【家族被引证次数】2
