【摘要】 本发明公开了一种交流等离子显示屏，包括前基板和与之封接 的后基板，前基板的放电电极上覆盖有介质层，其中，该介质层为 不均匀介质层，该介质层在首先放电位置的厚度大于在其它位置的 厚度。另一方面，本发明还提供了不均匀介质层的三种制作方法， 即印刷法、喷砂法和光刻法。在本发明中，将介质层制作成厚度不 均匀的介质层，在电极首先放电位置做得厚一些，其余位置做得薄 一些。这样，电极在首先放电位置，虽然电压较高，然而由于介质 层较厚，不容易击穿介质层；在其余的位置，由于电压相对低一些， 因此介质层虽薄也不会击穿介质层，从而降低着火电压。 【专利类型】发明申请 【申请人】四川世纪双虹显示器件有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100085北京市海淀区上地信息路11号 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810223472.8 【申请日】2008-09-28 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685749A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01J17/49; H01J17/02; H01J17/04; H01J9/00; H01J9/02; H01J11/10; H01J11/38 【发明人】曹瑞林 【主权项内容】1.一种交流等离子显示屏，包括前基板和与之封接的后基板，所 述前基板的放电电极上覆盖有介质层，其特征在于， 所述介质层为不均匀介质层，所述介质层在首先放电位置 的厚度大于在其它位置的厚度。 【当前权利人】四川世纪双虹显示器件有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区上地信息路11号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91510700791800222X 【引证次数】2.0 【被引证次数】1 【他引次数】2.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】1
