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一种文件安全删除系统专利

发布时间:2026-06-14

【摘要】 本发明公开了一种文件安全删除系统,该系统包括;文件系统驱动模块、判断模块、图式模块、对比模块及删除模块,所述系统通过操作系统发出的请求执行操作,并判断文件请求的类型,进行删除文件。本发明在不需要用户人工参与的前提下,安全、彻底地删除相关的数据,因此不会造成因机密数据的泄露。。: 【专利类型】发明申请 【申请人】北京泰得思达科技发展有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100089 北京市海淀区厂洼路3号丹龙大厦A1058室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810104346.0 【申请日】2008-04-17 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101699430A 【公开公告日】2010-04-28 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G06F17/30 【发明人】任忠宇; 任中本 【主权项内容】一种文件安全删除系统,其特征在于,所述系统包括;文件系统驱动模块、判断模块、图式模块、对比模块及删除模块,其中,所述文件系统驱动模块,依照操作系统发出的文件请求执行请求操作,并返回所述文件请求;判断模块,接收所述文件请求,以判断所述文件请求的类型;图式模块,用于建立文件系统图式以表示文件所在的数据块,并依照该请求记录所述文件系统图式的更新;对比模块,当所述文件请求类型为文件删除请求时,进行对比所述图式模块中删除操作之前所述文件系统图式结构与删除操作以后更新的所述文件系统的图式结构,以查找所述删除操作对应的文件;删除模块,用于依照查找的所述文件的删除文件,清除所述删除文件所在的数据块的内容。 【当前权利人】北京泰得思达科技发展有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区厂洼路3号丹龙大厦A1058室 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91110108783224819M

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  • 【摘要】本发明设计了一种应用于CeRAM的TMO材料,属于半导体集成电路设计和制造技术领域。本发明用于描述TMO材料在不同电压下表现的电阻行为特性,可以用于电路设计与仿真的工具软件。本发明可以良好的模拟TMO材料的电学行为,并可以方便的应用
  • 【摘要】一种高温云纹干涉变形测量系统,属于光测力学、工程材料、构件变形和位移测试技术领域。本发明由激光器、分光耦合器、高温炉、六维调节架和云纹干涉光路系统五部分组成。该测量系统可以实现在高温条件下对u,v两个位移场的高精度实时测量。系统使用