【摘要】 本发明涉及一种发声装置，其包括一信号输入装置及一发声元件。所述发声元件与所述信号输入装置电连接。所述发声元件包括一碳纳米管结构，所述碳纳米管结构至少一表面与一液态介质接触。所述信号输入装置输入信号给该碳纳米管结构，使该碳纳米管结构改变所述液态介质的密度而发出声波。 【专利类型】发明申请 【申请人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【申请人类型】企业,学校 【申请人地址】100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810218232.9 【申请日】2008-12-05 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101754080A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101754080B 【授权公告日】2013-04-24 【授权公告年份】2013.0 【IPC分类号】H04R23/00; C01B31/02; C01B31/00 【发明人】姜开利; 杨远超; 陈卓; 肖林; 范守善 【主权项内容】一种发声装置，其包括：一信号输入装置；以及一发声元件，所述发声元件与所述信号输入装置电连接；其特征在于，所述发声元件包括一碳纳米管结构，所述碳纳米管结构至少一表面与一液态介质接触，所述信号输入装置输入信号给该碳纳米管结构，使该碳纳米管结构改变所述液态介质的密度而发出声波。 【当前权利人】清华大学; 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室; 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 【专利权人类型】公立; 有限责任公司(外国法人独资) 【统一社会信用代码】12100000400000624D; 914403007084307436 【引证次数】5.0 【被引证次数】1 【自引次数】5.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】17.0 【家族被引证次数】1
