【摘要】 一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。本发明利用带陷阱的紧凑型迷宫结构进行辐射屏蔽与防护，迷宫墙和陷阱对辐射源产生的透射射线和在射线传递过程中产生的散射射线进行有效屏蔽和快速衰减，以实现迷宫屏蔽装置外围边界的辐射水平满足设计要求；在合适的位置设计一定形状的喉板可以减小射线的散射面积，进一步降低泄漏出去的辐射水平；带陷阱的紧凑型迷宫结构占地面积小，防护成本低，能实现辐照系统连续、快速工作的需求。。： 【专利类型】发明申请 【申请人】同方威视技术股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810226668.2 【申请日】2008-11-19 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101740155A 【公开公告日】2010-06-16 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101740155B 【授权公告日】2012-03-28 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G21F7/00; G21F7/005; G21K5/00 【发明人】黄铭; 邓艳丽; 曹艳峰; 侯利娜; 朱国平 【主权项内容】一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。 ： 【当前权利人】同方威视技术股份有限公司 【当前专利权人地址】北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 【专利权人类型】其他股份有限公司(非上市) 【统一社会信用代码】91110108710927548B 【被引证次数】8 【被自引次数】2.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】8
