【摘要】 本发明提供一种用于激光的消相干匀场装置，包括中空波导和散射 媒质，所述中空波导为密封腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行 传导。本发明通过激光在散射媒质中的传播过程中，通过散射媒质对激 光发生的瑞利散射将激光分束并利用波导的混光作用将上述分束光进 行匀化，最终得到相干性有效降低且照度分布均匀的激光光束。 本发明的装置可以同时实现消相干和匀场功能，并且激光利用率 高、成本低廉、无噪音、不耗电。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京中视中科光电技术有限公司; 中国科学院光电研究院 【申请人类型】企业,科研单位 【申请人地址】100094北京市海淀区永丰高新技术产业基地永捷北路3号现代企业加速器B座5层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】海淀区 【申请号】CN200810222590.7 【申请日】2008-09-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101685181A 【公开公告日】2010-03-31 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】G02B6/00; G02B6/032; G02B1/10; H04N9/31; G02B1/11 【发明人】成华; 毕勇; 颜世鹏; 贾中达 【主权项内容】1.一种用于激光的消相干匀场装置，包括中空波导和散射媒质，其中， 所述散射媒质适用于对所述激光实行瑞利散射，所述中空波导为密封 腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行传导。 【当前权利人】北京中视中科光电技术有限公司; 中国科学院光电研究院 【当前专利权人地址】北京市海淀区永丰高新技术产业基地永捷北路3号现代企业加速器B座5层; 北京市海淀区邓庄南路9号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股); 【统一社会信用代码】91110108MABLQQJ189; 12100000717806239N 【引证次数】2.0 【被引证次数】15 【他引次数】2.0 【被他引次数】15.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】15
