【摘要】 本发明公开了一种静电卡盘及等离子体装置，静电卡盘设有多路背吹气体通路，其中一路与升针孔贯穿或连接。多路背吹气体通路可以由一路供气管路供气，也可以由多路供气管路供气。背吹气体通路相对于基片和静电卡盘之间的间隙是很大的，在基片加工工艺结束后，通过背吹气体通路进行抽气时，可以很快的将升针孔中的气体抽净，缩短了基片加工工艺的时间，提高了生产效率。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810223918.7 【申请日】2008-10-09 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101719480A 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【IPC分类号】H01L21/683; H01L21/00; C23C16/458; C23C14/50; C30B25/12; C23F4/00; H01J37/32; H01L21/67 【发明人】张宝辉 【主权项内容】一种静电卡盘，包括背吹气体通路、升针孔，其特征在于，所述背吹气体通路与所述升针孔贯穿或连接。 【当前权利人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【当前专利权人地址】北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】8 【被自引次数】5.0 【被他引次数】3.0 【家族被引证次数】8
