【摘要】 本发明公开了一种工艺控制方法和装置，该方法包括：选取当前工艺下的历史数据样本，所述历史数据样本包括当前工艺的光谱强度数据和待预测参数；依据所述历史数据样本，构建以光谱强度数据为输入变量，以待预测参数为输出变量的预测模型；基于该预测模型，对本次工艺过程进行控制。本发明通过选取针对同一工艺(如，待控制的当前工艺)的历史数据样本，构建合适的预测模型，以避免现有技术简单预测的缺陷，或者仅仅依靠实时光谱数据所带来的误差。 【专利类型】发明申请 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810239833.8 【申请日】2008-12-12 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101751026A 【公开公告日】2010-06-23 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101751026B 【授权公告日】2012-12-26 【授权公告年份】2012.0 【IPC分类号】G05B19/418 【发明人】杨峰 【主权项内容】一种工艺控制方法，其特征在于，包括：选取当前工艺下的历史数据样本，所述历史数据样本包括当前工艺的光谱强度数据和待预测参数；依据所述历史数据样本，构建以光谱强度数据为输入变量，以待预测参数为输出变量的预测模型；基于该预测模型，对本次工艺过程进行控制。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【被引证次数】14 【被他引次数】14.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】14
