【摘要】 本发明公开了一种气体分配装置，其包括支撑板、阻流板和喷淋头电极，所述支撑板上设置有进气通道，喷淋头电极上开设有排气通道。支撑板的背面设置有第一支撑台以及支撑板导流凸台，导流凸台之间的部分以及第一支撑台与导流凸台之间的部分形成导流沟槽；阻流板的正面设置第二支撑台，以将支撑板与阻流板叠置在一起，同时使进气通道的气体能够借助于导流沟槽而传递和扩散；以及在阻流板上设置阻流板通孔，以便将导流沟槽的气体传递到喷淋头电极的上方，并借助于所述排气通道而将所述气体排出到反应腔室内。本发明还公开一种等离子体处理设备。本发明具有能够均匀地分配气体，且结构简单、成本低、并便于加工、方便维护和不易损坏等优点。 【专利类型】发明授权 【申请人】北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 【申请人地区】中国 【申请人城市】北京市 【申请人区县】朝阳区 【申请号】CN200810118448.8 【申请日】2008-08-22 【申请年份】2008 【公开公告号】CN101339895B 【公开公告日】2010-06-02 【公开公告年份】2010 【授权公告号】CN101339895B 【授权公告日】2010-06-02 【授权公告年份】2010.0 【IPC分类号】H01L21/00; H01L21/02; C23C16/455; C23F4/00; H01J37/32; H05H1/00 【发明人】宋巧丽; 南建辉 【主权项内容】一种气体分配装置，用于将气体均匀地分配至反应腔室内，包括自上而下依次层叠设置的支撑板、阻流板和喷淋头电极，所述支撑板上设置有进气通道，用于将气体引入到所述气体分配装置内；所述喷淋头电极上开设有排气通道；其特征在于：所述支撑板的背面设置有第一支撑台以及沿周向和径向延伸的支撑板导流凸台，相邻支撑板导流凸台之间的部分以及第一支撑台与支撑板导流凸台之间的部分形成导流沟槽，所述导流沟槽包括沿周向延伸的周向沟槽以及多个沿径向延伸的径向沟槽，并且每一条径向沟槽的宽度自中心向边缘逐渐变宽而呈放射状；对应于所述第一支撑台，在所述阻流板的正面设置第二支撑台，借助于第一支撑台与第二支撑台的相互支撑而将所述支撑板与所述阻流板叠置在一起，同时使所述进气通道的气体能够借助于所述导流沟槽而传递和扩散；以及至少在所述阻流板上的与所述导流沟槽对应的位置处设置阻流板通孔，所述阻流板通孔贯通所述阻流板，以便将所述导流沟槽的气体传递到所述喷淋头电极的上方，并借助于所述排气通道而将所述气体排出到反应腔室内。 【当前权利人】北京北方华创微电子装备有限公司 【当前专利权人地址】北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91110302801786752A 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】39
